TY-9000型全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。

應(yīng)用領(lǐng)域：冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

主要技術(shù)參數(shù)：光學(xué)系統(tǒng)：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)；

波長范圍：170nm~580nm

焦距：400mm

探測器：高性能CCD陣列

光源類型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）

放電頻率：100-1000Hz

放電電流：400A

工作電源：220VAC 50/60Hz

儀器尺寸：720*860*500

儀器重量：約100kg（不含真空系統(tǒng)）

檢測時(shí)間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右

電極：鎢材噴射電

光學(xué)恒溫：34℃± 0.3℃

氬氣要求：99.999％

氬氣進(jìn)口壓力：0.5MPa

氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min

工作溫度：10℃～35℃

工作濕度：20％～85％

分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測