ULVAC愛發(fā)科 多級羅茨干式真空泵 LR180

ULVAC愛發(fā)科 多級羅茨干式真空泵 LR180

多級羅茨干式真空泵是一種在真空室內(nèi)不使用油或液體的機械真空泵。
在 FPD、電子和半導體行業(yè)等領(lǐng)域，需要更清潔的真空，并且需要真空泵來提高產(chǎn)量和可維護性。 *常見的泵是羅茨干式真空泵。
通過在低溫范圍內(nèi)平衡泵體的熱量，它是 PVD 工藝抽真空的理想泵，尤其是在制備和取出室中，縮短泵送時間以提高吞吐量非常重要。

長處
除了低溫整平（型號：LR）
PVD 工藝外，它還特別適用于制備室和取出室的排氣，在這些地方，縮短抽氣時間對于提高產(chǎn)量很重要。
由于其密封結(jié)構(gòu)，由于其密封
結(jié)構(gòu)，它非常安全。
瞬時停止：在 1000 毫秒內(nèi)實施瞬時停止
措施。
優(yōu)異的耐腐蝕性主要部件采用表面硬度高、耐腐蝕性優(yōu)異的特殊
表面處理。 減少排空腐蝕性氣體時泵內(nèi)部的腐蝕。
通信功能：
可以讀取泵運行狀態(tài)和警告/警報歷史記錄數(shù)據(jù)。 通過使用軟件和計算機通信，可以進行集中監(jiān)控。
用
成膜設(shè)備（濺射設(shè)備、氣相沉積設(shè)備等）
減少準備室和取出室的排氣時間
作為輔助排氣泵（渦輪分子泵的輔助排氣、機械增壓泵）
規(guī)范
型
LR60 系列
LR90 系列
LR180型
LR421 系列
LR421-T
*抽速
50 赫茲
m3/h
（升/分鐘）
62 (1030)
112 (1860)
183 (3100)
440 (7333)
60 赫茲
m3/h
（升/分鐘）
80 (1333)
126 (2100)
237 (3950)
440 (7333)
極限壓力
5.0 帕
*入口壓力（入口壓力）
氣壓
*排氣口壓力（排氣壓力）
1Pa ~ 大氣壓
進氣口 （CE 規(guī)格）
VG50（KF50） 系列
VG80型 （KF50）
VG100 系列
排氣口
肯氟烴40
VG50 系列
質(zhì)量
公斤
180
245
335
415
電力 *1
三個階段
VAC （赫茲）
200 (50/60) , 220 (60)
0 （50/60）
當前值
穩(wěn)態(tài)
一個
200V 時為 6.9
200V 時為 11.2
200V 時為 18.9
200V 時為 20.8
*值
一個
200V 時為 7.3
200V 時為 11.8
200V 時為 20.6
200V 時為 48.5
冷卻水臨時壓力
兆帕
0.1~0.3
0.2~0.5
冷卻水入口/出口壓差
兆帕
>0.1
>0.2
冷卻水流量
升/分鐘
>5.0
>4.0
吹掃氣體
一次壓力
兆帕
0.1~0.5
二次壓力
兆帕
0.05~0.1
N2 吹掃
軸
SLM 系列
5
加斯伯勒
SLM 系列
0~45
沒有
0~45
ULVAC（愛發(fā)科）是日本*的真空技術(shù)和精密設(shè)備制造商，成立于1952年，部位于日本神奈川縣。作為全球真空行業(yè)的企業(yè)，ULVAC專注于真空設(shè)備、鍍膜系統(tǒng)、半導體制造設(shè)備、分析儀器等高科技領(lǐng)域，為電子、光伏、汽車、醫(yī)療等行業(yè)提供核心技術(shù)支持。
2. 核心技術(shù)及產(chǎn)品
ULVAC的核心業(yè)務(wù)涵蓋：
真空設(shè)備：干式真空泵、分子泵、真空測量儀器等。
鍍膜技術(shù)（PVD/CVD）：用于半導體、光學薄膜、太陽能電池等。
半導體制造設(shè)備：濺射設(shè)備、蝕刻設(shè)備、封裝設(shè)備等。
分析測試儀器：X射線光電子能譜儀（XPS）、電子顯微鏡等。
新能源與顯示技術(shù)：OLED蒸鍍設(shè)備、鋰電薄膜設(shè)備等。